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更新时间:2026-09-18
浏览次数:17半导体、光学元件、液晶与精密陶瓷制造工艺中,工件表面纳米级有机残留是制约镀膜、键合、贴合良率的关键瓶颈。传统湿法清洗存在化学品消耗、
废液处理、基材腐蚀、微小结构清洗死角等短板。紫外光清洗作为干式无耗材的表面处理方案,已广泛应用于超净产线。SEN 日森 SUV90US-43是一款 90W
低压水银紫外光清洗灯管,依靠 185nm+254nm 双波段紫外协同作用,实现有机物光解与基材表面改性,是 UV 光清洗机、表面改质设备的核心光源组件。
SUV90US-43 为日本 SEN 特殊光源原厂空冷型紫外清洗灯,属于 SUV90US 系列,专为连续工业工况开发。
额定功率:90W
特征波长:185nm(真空紫外,产生臭氧,裂解大分子有机物)+254nm(短波紫外,氧化降解污染物)
外形尺寸:全长 515mm,发光长度 455mm;引出导线长度可选 100–1000mm
冷却方式:空冷
标称寿命:标准工况 5000h;恒温无尘理想工况最高可达 7000h
光源类型:低压汞紫外灯,臭氧型
适配配套:匹配 SEN 专用安定器,可直接集成在国产、进口 UV 光清洗设备中,兼容自动化流水线 24h 不间断运行
SUV90US-43 同时输出 185nm 真空紫外与 254nm 紫外,两段波段分工完成光清洗工艺。
185nm 真空紫外:能量可电离空气中氧气生成臭氧,高能光子直接打断碳氢有机污染物分子链,
将油脂、皮脂、光刻胶残膜、松香、聚酰亚胺等大分子裂解为小分子挥发性物质。
254nm 紫外:激发臭氧生成活性氧自由基,进一步氧化分解裂解后的有机碎片,生成 CO₂、H₂O 等气体,从工件表面脱离,完成干式除污。
表面改性效应:紫外与活性氧作用会提升基材表面氧官能团占比,提高表面张力,改善 ITO 玻璃、硅片、光学镜片、
膜的粘接、镀膜、印刷附着力,解决后续工艺脱膜、镀膜针孔、贴合气泡等问题。
提示:该灯管产生臭氧,设备必须配套排风系统,防止臭氧在腔体与车间积聚。无机杂质、粉尘无法被紫外分解,需搭配除尘或后续干式吹扫。
双波段同步输出,清洗效率均衡同一支灯管同时输出 185/254nm,无需多光源组合,腔体光路结构简单,照射面紫外能量均匀,适合大面积基板、多工位连续处理。
特制镀膜石英管,光衰控制优异采用高纯度镀膜石英玻璃,减少紫外吸收,延缓灯管黑化,长时间连续点亮下紫外强度衰减速率低,
保障整批产品工艺一致性,降低频繁换灯带来的产线停机损耗。
工业级连续运行稳定性对电网小幅电压波动、洁净室粉尘环境耐受度强,适配半导体、光学行业 24 小时量产线,替换安装简单,备件管理便捷。
干式工艺,环保低运维清洗过程无需有机溶剂、酸碱清洗液,无废水危废,降低化学品采购、废液处置成本,
同时规避湿法清洗对超薄薄膜、多孔精密陶瓷、微结构器件的腐蚀风险。
半导体:硅片、掩膜板、芯片载片台有机污染物去除,晶圆表面活化改质
光学行业:光学玻璃、石英晶体、ITO 导电玻璃、镜头、滤光片镀膜前预处理
显示行业:LCD、OLED、触摸屏基板,薄膜贴合前表面活化
精密陶瓷、偏光片、PCB 高精度线路板:表面除油,提升粘接与涂覆附着力
实验室:光化学反应、TOC 降解、材料表面改性实验平台
可清除污染物:皮脂、润滑油、石蜡、光刻胶残胶、树脂析出物、碳氢有机薄膜等有机类污染物。
SUV90US-43 为空冷款,不可直接替换水冷 SUV90UH 系列;必须使用匹配规格的 SEN 安定器,电源不匹配会造成输出不足、灯管提前老化、频闪,直接影响清洗良率。
紫外直射会损伤人眼与皮肤,设备腔体必须遮光,开门联锁保护,检修时断电等待灯管冷却。
臭氧型光源必须配套强排风,将腔体内臭氧抽排至外部或加装臭氧分解器。
灯管属于易碎石英件,安装禁止手握发光区域,避免指纹油脂附着,油脂会在紫外照射下烧结在管壁,加速光衰。
标称 5000h 为参考寿命,实际有效工艺效果不能仅依靠时长判断。当工件表面附着力、清洗良率明显下降时,
建议使用紫外能量计监测辐照强度,强度衰减至阈值以下即安排更换,避免隐性良率风险。
SEN SUV90US-43 是成熟稳定的 90W 臭氧型双波长紫外清洗光源,依靠 185nm+254nm 协同光化学作用,实现精密工件干式除污与表面活化。
在半导体、光学、显示、精密陶瓷制造的预处理工序,可替代部分湿法清洗工位,在良率提升、危废减量、产线自动化集成方面具备明显优势。
在选型时需区分空冷 / 水冷版本,配套适配电源与排风系统,同时建立紫外强度监测机制,保障长期工艺稳定性。